如果其他国家拥有的科研技术优势，龙国也有，那就不会被其他国家的科研机构，实施技术封锁了。

想到这些，林凡再次打开了那款咸鱼app，仔细端详着那笔订单详情。

euv-MX-9000，技术指标：7纳米……

“不够！”

“这些还远远不够！”

“只是七纳米的制程工艺，还不足以打破国外科研机构，在这项领域，长期形成的技术优势！”

林凡将这批光刻机的性能指标反复看了几遍，摇头道。

时至今日，7纳米的制程工艺，只能让龙国在光刻机的问题上，实现从无到有的地步。

想要在这一领域变得更好，甚至追平国外，还需要蚀刻精度更高的光刻机！

早在去年，林凡就听说国外已经开始研发5纳米技术指标的euv光刻机了。

想要抹平龙国在这一领域，与国外科研机构的技术差距，至少要将目光看向5纳米，甚至更高的蚀刻精度！

返回咸鱼首页，林凡直接在搜索框里输入光刻机这三个字，点击搜索。

顿时，一整页关于光刻机的商品信息，就出现在了林凡眼前。

【处理一批工作室淘汰的euv光刻机，可批发，可零售，标价99，0人想要！】

【光刻机一台，euv的，制程工艺10纳米，不保证能用！标价29，0人想要！】

【老旧的euv光刻机一台，从仓库翻出来的，不知道能不能用，标价33，0人想要！】

【asmt原装光刻机，标价45，0人想要！】

往下一划，还有更多关于光刻机的商品信息。

林凡随便翻了一下，发现这些卖家出售的二手光刻机，最高就只有7纳米的制程工艺。

再往下看，又是一些熟悉的商品信息，有很多都是刚才看过的。

显然，之前首页推荐的那条信息，就是在这上面，能够买到的制程工艺最高的光刻机了。

林凡又试着通过品类筛选进行查找，还是没有找到比7纳米工艺更高的二手光刻机。

既然这上面没有卖的，那就只能自己动手造了！

说干就干。

林凡拿出纸笔，在纸上列举了光刻机最核心的几个部件。

激光器。

光罩。

扫描镜。

等离子体控制器。

系统控制器。

这五个部件是组成一台光刻机的关键！

这五大难点当中的三个，都是曾经斩获喏贝尔奖的前沿科技！

难度可见一斑！

激光器的功率要大！

光罩需要尽可能的没有瑕疵！

扫描镜需要极高的反射率！

等离子体控制器需要足够精准！

系统控制器需要绝对安全、稳定！

然而，这些还都只是问题的一部分。

一台完整的光刻机，需要用到两万多个零件。

在国外科研机构针对龙国实施技术封锁的情况下，想要造出一台光刻机，就需要具备自主研发并生产这两万多个零部件的能力！

这无异于从零开始！

也就是说，林凡不仅要解决最核心的五大难题，还要解决所有与之相关的问题。

也只有这样做，才能造出一台属于自己的高分辨力光刻机！

对此，林凡虽然有着一定的心理准备，但他也不得不承认，想要做到这样一件事情，难度丝毫不亚于建造一艘十万吨级的核动力航母！

好在林凡前世也曾参与过研制中子弹的项目计划，在那片一望无际的大漠之中，林凡磨练出了远超常人的意志与魄力，尽管他仍会对某些事情感到棘手，但从那以后，他再也不曾轻言放弃。

这是他们那一代的科研工作者们，共同拥有的一种精神！

手握笔尖，在纸上随便写写画画了一阵子后，林凡在脑海当中，确定了自己要造的那台光刻机的大致轮廓。

想到卖家或许可以提供一份现成的光刻机设计图纸，以供参考，林凡当即拿起手机，给卖家发了一条消息。

【能不能发我一份宝贝的设计图纸？】

【亲，这个当然可以，你等我找一下，我这就发给你。】

过了一会儿，卖家就将那批7纳米的光刻机设计图纸，通过拍照的方式，发了过来。

得到那批光刻机的设计图纸之后，林凡粗略的对比一下，并在脑海当中稍微做了一些修改。

等到感觉差不多了，林凡重新铺上一张白纸，将自己设想的那台光刻机的轮廓，简略的画了出来。

从外形上看，像是一个方方正正的柜子。

但这只是完成了第一步。

相当于给自己想要设计的那台光刻机，打了一份底稿。

仅此而已。

接下来，林凡还要想办法解决那五大核心问题。

首先是一台大功率的激光器。

这里可以取巧，毕竟龙国科学界在激光领域取得的技术成果，也不算小。

但要如何将其转化成光刻机可以使用的大功率激光器，需要一定的创造力，以及一定的想象力。

林凡想了很久，觉得可以利用龙科院最新研发的激光武器，稍微做点修改，将其调整为光刻机可以使用的大功率激光器。

但这里还牵扯到另一个问题，那就是光源。

光刻机上面使用的光源，大致可以分为四种。

第一种，可见光源，又名g线。

第二种，紫外光，又名i线。

第三种，深紫外光，又名krf。

第四种，极紫外光，又名euv。

前三种的光线分辨力都很差，大多都在200纳米到400纳米之间。

只有极紫外光可以达到5纳米以上的光线分辨力！

“不行，得推倒重做。”

想到这里，林凡摇了摇头。

军用的大功率激光器，并不具备自己所需的光线分辨力。

苦思冥想了一阵子，林凡忽然意识到，龙科院之前研制的‘龙光源’，可以发出极紫外自由电子激光脉冲。

并且，单个皮秒激光脉冲，能够产生140万亿个光子。

以此稍微修改一下，做为大功率激光器，还是可以的。

然后是光罩，又名光掩膜版，或是掩膜版。

在制作集成电路的过程中，想要利用蚀刻技术，在半导体上形成图形，并将图形复制在晶圆上，就必须透过光罩。